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太阳电池集成式GaAs结二极管的结构设计及制造方法

摘要

本发明提供一种太阳电池集成式GaAs结二极管的结构设计及制造方法,该集成式二极管为单结结构,从上到下依次设置有上电极金属层、Ge子电池、Ge衬底和下电极金属层。该方法包括以下步骤,1)第一次光刻腐蚀,将二极管区域腐蚀至隧穿结层;2)第二次光刻腐蚀,将跨越区腐蚀至衬底层;3)第三次光刻腐蚀,将隔离区腐蚀至衬底层;4)光刻、蒸镀上电极;5)蒸镀下电极;6)划片;7)制减反射膜。本发明的有益效果是:集成式二极管只采用GaAs结单结结构,其开启电压只有1.1Ⅴ左右,有益于并联电池在出现故障之时,及时导通旁路二极管,避免出现更大的电池伤害;本发明降低了其热阻值,进而大大降低旁路二极管被热击穿的风险。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-03

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L31/0443 申请公布日:20170818 申请日:20161228

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2017-09-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0443 申请日:20161228

    实质审查的生效

  • 2017-08-18

    公开

    公开

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