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公开/公告号CN106981549A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-07-25
原文格式PDF
申请/专利权人 华南理工大学;
申请/专利号CN201710259420.5
发明设计人 李国强;韩晶磊;温雷;高芳亮;
申请日2017-04-19
分类号H01L33/22(20100101);H01L33/12(20100101);H01L33/00(20100101);H01L21/02(20060101);
代理机构44245 广州市华学知识产权代理有限公司;
代理人陈文姬
地址 510640 广东省广州市天河区五山路381号
入库时间 2023-06-19 02:55:17
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-08-18
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/22 申请日:20170419
实质审查的生效
2017-07-25
公开
机译: 通过掩膜柱侧壁的横向生长在碳化硅衬底上制造氮化镓半导体层的前外延方法以及由此制造的氮化镓半导体结构
机译: 氮化镓上的LED与铝/氮化镓上的器件的集成,氮化镓在LED AC的硅衬底上的集成
机译: 通过从掩模柱的侧壁横向生长在碳化硅衬底上制造氮化镓半导体层的五外延方法
机译:比较光学光谱法沉积在硅衬底上的氮化镓和氮化铝纳米结构
机译:使用三乙基镓前体化学气相沉积方法在硅衬底上制备m轴InGaN纳米柱阵列
机译:收回说明:使用Mather型等离子聚焦装置(MPFD)在P型硅衬底上形成纳米多孔氮化镓(NPGaN)的评论
机译:使用在硅衬底上InP纳米柱阵列的位置控制MOCVD生长的明亮LED
机译:MOCVD生长氮化镓和制造氮化铝镓/氮化镓双异质结构LED。
机译:通过氮化硅衬底上电化学沉积的氧化镓的氮化合成氮化镓纳米结构
机译:在包括非氮化镓柱的基板上制造氮化镓半导体层的方法,以及由此制造的氮化镓半导体结构。