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生长在硅衬底上的氮化镓纳米柱LED外延片及其制备方法

摘要

本发明公开了生长在硅衬底上的氮化镓纳米柱LED外延片,包括多根生长在硅衬底上的纳米柱;每根纳米柱由下至上依次包括非掺杂含铟氮化镓纳米柱、n型掺杂氮化镓层、铟镓氮/氮化镓多量子阱、p型掺杂氮化镓层。本发明还公开了生长在硅衬底上的氮化镓纳米柱LED外延片的制备方法,包括以下步骤:(1)硅衬底的清洗;(2)金属铟液滴的沉积:(3)非掺杂含铟氮化镓纳米柱的生长;(4)n型掺杂氮化镓层的生长;(5)铟镓氮/氮化镓多量子阱的外延生长;(6)p型掺杂氮化镓层的外延生长。本发明具有生长工艺简单,制备成本低廉的优点,且制备的LED外延片缺陷密度低、结晶质量好,电学、光学性能好。

著录项

  • 公开/公告号CN106981549A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南理工大学;

    申请/专利号CN201710259420.5

  • 发明设计人 李国强;韩晶磊;温雷;高芳亮;

    申请日2017-04-19

  • 分类号H01L33/22(20100101);H01L33/12(20100101);H01L33/00(20100101);H01L21/02(20060101);

  • 代理机构44245 广州市华学知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈文姬

  • 地址 510640 广东省广州市天河区五山路381号

  • 入库时间 2023-06-19 02:55:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/22 申请日:20170419

    实质审查的生效

  • 2017-07-25

    公开

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