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公开/公告号CN106783961A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-05-31
原文格式PDF
申请/专利权人 西安电子科技大学;
申请/专利号CN201710021097.8
发明设计人 段宝兴;郭海君;谢慎隆;袁嵩;杨银堂;
申请日2017-01-11
分类号H01L29/06;H01L29/778;
代理机构西安智邦专利商标代理有限公司;
代理人胡乐
地址 710071 陕西省西安市太白南路2号
入库时间 2023-06-19 02:20:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-06-23
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/06 申请日:20170111
实质审查的生效
2017-05-31
公开
机译: 包含Algan / GAN异质结和P掺杂金刚石门的增强模式场效应晶体管
机译: 具有AlGaN / GaN异质结构和异质结构场效应晶体管的半导体衬底
机译:AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管,具有半绝缘Mg掺杂GaN帽层
机译:栅极结构常压AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管与P-GaN帽层
机译:具有和不具有掺杂Mg的载流子限制层的AlGaN / GaN异质结场效应晶体管(HFET)的电学性质
机译:具有高k Hfalo栅极介电层的原子层沉积(ALD)的AlGaN / GaN金属氧化物半导体异质结场效应晶体管(MOSHFET)的性能提高
机译:AlGaN / GaN异质结场效应晶体管的性能和可靠性建模。
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:具有薄AlGaN势垒层的AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管的Al2O3绝缘栅结构
机译:alGaN / GaN异质结场效应晶体管中的偏置应变及其意义