首页> 中国专利> 用于电子束(EBEAM)直接写入系统的圆角化校正

用于电子束(EBEAM)直接写入系统的圆角化校正

摘要

描述了适合于互补型电子束光刻(CEBL)的光刻装置和涉及互补型电子束光刻(CEBL)的方法。在示例中,用于电子束工具的阻断器孔阵列(BAA)包括沿着第一方向的第一列开口,第一列开口中的每一个开口具有卷边角。BAA还包括沿着第一方向并与第一列开口交错的第二列开口,第二列开口中的每一个开口具有卷边角。第一列开口和第二列开口一起形成在第一方向上具有节距的阵列。BAA的扫描方向沿着第二方向,第二方向正交于第一方向。阵列的节距对应于针对与第二方向平行的取向而言的线的目标图案的最小节距布局的一半。

著录项

  • 公开/公告号CN106716597A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN201480080717.X

  • 发明设计人 Y·A·波罗多维斯基;

    申请日2014-12-22

  • 分类号H01L21/027(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人陈松涛;王英

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2023-06-19 02:14:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/027 申请日:20141222

    实质审查的生效

  • 2017-05-24

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号