一种庭院盆栽樱桃西红柿技术

摘要

本发明公开一种庭院盆栽樱桃西红柿技术，包括温度、繁殖、栽植、浇水、施肥、管理、防治、收获，其中温度：生长适温为20-25度；繁殖：播种为主，播前将种子放入25度温水中浸泡5-6个小时，待种子充分吸水后播种；栽植：盆栽用口径30厘米以上较深的瓦盆，农家土肥；浇水：苗期盆土不宜过湿，盆土过湿或光照不足；施肥：盆栽20天后每盆追施膨化鸡粪或麻酱渣100-150克，每隔10天追1次肥；管理：根据樱桃西红柿长势进行摘心；防治：防止红蜘蛛病虫害；收获：不同季节视果实成熟而收。提供安全、新鲜、方便蔬菜，又具观赏。