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高压GaN基异质结晶体管的终止结构和接触结构

摘要

提供了一种半导体器件,该半导体器件包括:衬底;第一有源层,所述第一有源层设置在所述衬底的上方;以及第二有源层,所述第二有源层设置在所述第一有源层上。所述第二有源层具有比所述第一有源层高的带隙,使得在所述第一有源层和所述第二有源层之间产生二维电子气层。在所述第二有源层上设置的终止层包括InGaN。在所述终止层上设置源极接触、栅极接触和漏极接触。

著录项

  • 公开/公告号CN101689561B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-01-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电力集成公司;

    申请/专利号CN200880009134.2

  • 申请日2008-03-20

  • 分类号

  • 代理机构北京北翔知识产权代理有限公司;

  • 代理人郑建晖

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:12:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-01-02

    授权

    授权

  • 2010-05-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/205 申请日:20080320

    实质审查的生效

  • 2010-03-31

    公开

    公开

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