氮化硅膜的形成方法以及氮化硅膜的形成装置

摘要

本发明提供一种氮化硅膜的形成方法以及氮化硅膜的形成装置。氮化硅膜的形成方法包括：将被处理体收容于反应室内的收容工序；在收容到所述反应室内的被处理体上形成氮化硅膜的氮化硅膜形成工序；向收容有形成有所述氮化硅膜的被处理体的反应室供给具有不饱和键的碳氢化合物，对形成的所述氮化硅膜的表面进行碳封端的碳吹扫工序；将形成有所述表面被碳封端了的氮化硅膜的被处理体向所述反应室外输出的输出工序。