机译:机械应力在氮化硅膜上依赖于氮化硅膜在等离子体增强的化学气相沉积模式下
Natl Res Univ MIET Moscow 124498 Russia;
Lukin Res Inst Phys Problems Moscow 124460 Russia;
Natl Res Univ MIET Moscow 124498 Russia;
Natl Res Univ MIET Moscow 124498 Russia;
films of PECVD silicon nitride SiNx; mechanical stresses; IR Fourier spectroscopy; optical profilometry;
机译:机械应力在氮化硅膜上依赖于氮化硅膜在等离子体增强的化学气相沉积模式下
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法沉积氮化硅和类金刚石碳膜的光学性能随沉积时间的变化
机译:等离子体增强化学气相沉积并在高压下退火的氮化硅薄膜中硅和氢键的演变
机译:通过低频等离子体增强化学气相沉积制备的高质量氮化硅膜
机译:将等离子体增强化学气相沉积的氮化硅薄膜建模为有限的几何形状
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:多极等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅膜的氢和氧含量