法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-20
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L51/48 申请公布日:20160817 申请日:20160526
发明专利申请公布后的驳回
2016-12-28
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/48 申请日:20160526
实质审查的生效
2016-08-17
公开
公开
机译: 非对称双极脉冲直流磁控溅射制备TiAlN涂层的方法
机译: ICP耦合直流磁控溅射制备TiAlN涂层的方法
机译: RF叠加直流磁控溅射沉积超薄ITO:Ce膜,膜的制备方法和包括其的触摸屏