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机译:利用纳米粉末压实靶通过直流磁控溅射技术在Si(1 0 0)上制备La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3薄膜
Department of Physics, National Taiwan University, Taipei 106, Taiwan;
A. Oxides; A. Thin films; B. Sputtering; C. X-ray diffraction; D. Electrical properties;
机译:使用纳米粉末压实靶材通过直流磁控溅射技术在Si(100)上制备La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3薄膜
机译:直流磁控溅射在三层La_(0.67)Sr_(0.33)MnO_3 / La_(0.75)MnO_3 / La_(0.67)Sr_(0.33)MnO_3器件中的制备和巨大磁阻
机译:纳米粉末压实靶磁控溅射制备La_(0.7)sr_(0.3)mno_3薄膜的性能:衬底温度的影响
机译:磁阻溅射LA_(0.7)CA_(0.3)MNO_3薄膜在LAAIO_3(100)和YSZ(100)基板上的厚度依赖性
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:通过聚合物辅助沉积增强自组装外延La0.67Ca0.33MnO3:NiO和La0.67Ca0.33MnO3:Co3O4复合膜中的低场磁阻
机译:超导体的传输和光谱特性 - 铁磁体 - $ La_ {1.9} sr_ {0.1} CuO_4 $的超导体结 - $ La_ {0.67} Ca_ {0.33} mnO_3 $ - $ La_ {1.9} sr_ {0.1} CuO_4 $