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化学机械研磨用保持环的剥离方法

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摘要

一种化学机械研磨用保持环的剥离方法，保持环包括沿轴向排列的基盘和树脂环，基盘和树脂环之间通过接着剂粘接；剥离方法包括：将保持环加热至接着剂软化；用外力使基盘和树脂环剥离。剥离后的基盘可以重复利用，以节约原材料。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-08-30

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B24B37/32 申请公布日:20160706 申请日:20141211

发明专利申请公布后的驳回
2016-08-03

实质审查的生效 IPC(主分类):B24B37/32 申请日:20141211

实质审查的生效
2016-07-06

公开

公开

1. 化学机械研磨用保持环的剥离方法 [P] . 中国专利： CN105729298A . 2016-07-06
2. 一种化学机械抛光保持环及其加工方法 [P] . 中国专利： CN113352231A . 2021-09-07
3. RETAINING RING FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS, METHOD FOR THE MANUFACTURE THEREOF, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SYSTEM INCLUDING THE RETAINING RING [P] . 欧洲知识产权局专利： EP3708300A1 . 2020-09-16

机译：化学机械抛光过程的保持环，其制造方法以及包括该保持环的化学机械抛光系统
4. A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS, A CARRIER HEAD FOR THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS, RETAINING RING FOR THE CARRIER HEAD, AND METHOD FOR THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS [P] . 韩国专利： KR100726507B1 . 2007-06-11

机译：化学机械抛光设备，用于化学机械抛光设备的载体头，用于载体头的保持环以及用于化学机械抛光设备的方法
5. Retainer ring structure for chemical-mechanical polishing apparatus and method for manufacturing the same [P] . 美国专利： US10449649B2 . 2019-10-22

机译：用于化学机械抛光装置的保持环结构及其制造方法