制造包括金属氮化物层的半导体器件的方法和半导体器件

摘要

本发明涉及制造包括金属氮化物层的半导体器件的方法和半导体器件。制造半导体器件的方法包括将氮引入到金属层中或引入到金属氮化物层中，金属层或金属氮化物层被形成为与半导体材料接触。半导体器件包括半导体材料以及与半导体材料接触的金属氮化物层。金属氮化物具有大于金属氮化物中氮的溶解度限制的氮含量。