公开/公告号CN105714274A
专利类型发明专利
公开/公告日2016-06-29
原文格式PDF
申请/专利权人 成都西沃克真空科技有限公司;
申请/专利号CN201610202910.7
申请日2016-03-31
分类号C23C16/509;C23C16/26;C23C16/46;C23C16/52;
代理机构北京众达德权知识产权代理有限公司;
代理人詹守琴
地址 610200 四川省成都市双流县蛟龙工业港(双流园区)东海路六段680号
入库时间 2023-12-18 15:41:19
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-08-23
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C16/509 申请公布日:20160629 申请日:20160331
发明专利申请公布后的驳回
2016-07-27
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/509 申请日:20160331
实质审查的生效
2016-06-29
公开
公开
机译: 等离子体增强化学气相沉积系统及等离子体增强化学气相沉积膜沉积方法
机译: 等离子体处理装置,用于其的基质处理方法,等离子体化学气相沉积系统以及用于膜的制膜方法
机译: 用于等离子体增强化学气相沉积的方法和用于等离子体增强化学气相沉积的设备