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用于垂直场效应器件的温度补偿的器件架构和方法

摘要

公开了一种提供接通电阻根据结温度变化减小的场效应器件。具有源结、栅结和漏结的场效应器件包括邻近于漏结的电阻薄膜,其中,该电阻薄膜包括具有电阻负温度系数的材料。该材料选自由掺杂的多晶硅、非晶硅、硅铬和硅镍所组成的组的一个或多个材料,其中,诸如厚度和掺杂水平之类的材料性质被选择,以产生用于场效应器件的期望电阻和温度分布。与用于没有电阻薄膜的类似场效应器件的温度变化相比,减小了用于所公开的场效应器件的接通电阻的温度变化。

著录项

  • 公开/公告号CN105393362A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 D3半导体有限公司;

    申请/专利号CN201480027352.4

  • 发明设计人 T.E.哈林顿;

    申请日2014-03-13

  • 分类号H01L29/808;H01L29/06;H01L23/367;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人刘春元

  • 地址 美国德克萨斯州

  • 入库时间 2023-12-18 14:35:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-27

    专利权的视为放弃 IPC(主分类):H01L29/808 放弃生效日:20191227 申请日:20140313

    专利权的视为放弃

  • 2016-04-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/808 申请日:20140313

    实质审查的生效

  • 2016-03-09

    公开

    公开

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