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用于CPM后清除配方的新抗氧化剂

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本发明涉及一种用于从其上带有化学机械抛光(CMP)后残留物和污染物的微电子装置中清除所述残留物和污染物的清除组合物和方法。该清除组合物含有新型缓蚀剂。该组合物实现了CMP后残留物和污染物材料从微电子装置表面上的高度有效的清除，而不损害低k介电材料或铜互连材料。

著录项

公开/公告号CN105349284A

专利类型发明专利
公开/公告日2016-02-24

原文格式PDF
申请/专利权人安格斯公司;
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申请/专利号CN201510651623.X
发明设计人张鹏;杰弗里·巴尔内斯;普雷尔那·森塔利亚;埃马努埃尔·库珀;卡尔·博格斯;
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申请日2008-05-16
分类号C11D3/30(20060101);C11D7/26(20060101);C11D7/32(20060101);C23F11/10(20060101);C23G1/18(20060101);C23G1/26(20060101);H01L21/02(20060101);
代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人杨青;穆德骏
地址美国马萨诸塞州
入库时间 2023-12-18 14:26:07

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-12-21

著录事项变更 IPC(主分类):C11D3/30 变更前: 变更后: 申请日:20080516

著录事项变更
2016-03-23

实质审查的生效 IPC(主分类):C11D3/30 申请日:20080516

实质审查的生效
2016-02-24

公开

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1. 用于CPM后清除配方的新抗氧化剂 [P] . 中国专利： CN105349284A . 2016-02-24
2. 用于CPM后清除配方的新抗氧化剂 [P] . 中国专利： CN101720352A . 2010-06-02
3. The formulation for the stabilization of sodium ascorbate dispersed in polymeric matrix of carbômero 934p for removal of residual oxygen of dental enamel newly cleared [P] . BR102015020297A2 . 2018-10-30

机译：用于稳定清除在carbômero934p聚合物基体中的抗坏血酸钠的配方，以清除新清除的牙釉质中的残留氧
4. Use of new or known benzoic acid compounds e.g. as radical scavengers and/or antioxidant to non-therapeutic purposes, to protect tissues and/or cells from oxidative processes and/or radicals, and in a cosmetic or dermatological preparation [P] . 德国专利： DE102009020729A1 . 2010-11-18

机译：使用新的或已知的苯甲酸化合物，例如作为非治疗用途的自由基清除剂和/或抗氧化剂，用于保护组织和/或细胞免受氧化过程和/或自由基的损害，并用于化妆品或皮肤病学制剂
5. New 3,4-dihydroxybenzyl-substituted carbonic acid derivatives are antioxidants and radical scavengers useful e.g. for preventing skin aging or protecting cosmetic, dermatological or foodstuff compositions against oxidation [P] . 德国专利： DE10030891A1 . 2002-01-03

机译：新的3，4-二羟基苄基取代的碳酸衍生物是抗氧化剂和自由基清除剂，例如可用于有机溶剂。用于防止皮肤老化或保护化妆品，皮肤病学或食品组合物免于氧化