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栅极与源漏极异面的GaN基HEMT的结构及其制作方法

摘要

本发明公开了栅极与源漏极异面的GaN基HEMT(高电子迁移率晶体管)的结构与制作方法,能够降低栅极表面漏电,降低导通电阻。所述栅极与源漏极异面的GaN基HEMT,包括一个源极,一个漏极与一个栅极,其中栅极处于外延片的一面,而源漏两极处于另一面。由于栅极与源漏两极处于不同的平面,栅极表面漏电将减少,同时源漏距离可以设计的相对较小,从而减少导通电阻。本发明可以减少栅极表面漏电流,并通过缩短源漏电极间距减少正向导通电阻,从而减少GaN基HEMT在使用中的电能损耗。

著录项

  • 公开/公告号CN105047709A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-11-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201510524897.2

  • 发明设计人 程哲;张韵;张连;

    申请日2015-08-25

  • 分类号H01L29/778;H01L21/335;H01L29/417;H01L29/423;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人任岩

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-12-18 12:02:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-11

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/778 申请公布日:20151111 申请日:20150825

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-12-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20150825

    实质审查的生效

  • 2015-11-11

    公开

    公开

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