法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-12-12
授权
授权
2010-04-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G02F 1/1339 申请日:20080404
实质审查的生效
2010-02-24
公开
公开
机译: 多层液晶显示器件的多层刻蚀组成及阵列基板的制备方法
机译: 用于掩模坯料的透明基板的制造方法,掩模坯料的制造方法,曝光掩模的制造方法,半导体器件的制造方法,液晶显示器件的制造方法以及曝光掩模的缺陷校正方法
机译: 制备具有中空凹部的零件,具有中空凹部的零件,具有中分子的中空凹部的零件,中微子基板,透射屏和后投影仪的制造方法