法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-12-07
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01J3/28 申请公布日:20120613 申请日:20111214
发明专利申请公布后的视为撤回
2015-01-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G01J3/28 申请日:20111214
实质审查的生效
2012-06-13
公开
公开
机译: 光掩模装置,光学成像系统,用于确定衍射光学元件的光栅参数和吸收特性的方法以及用于制造衍射光学元件的方法
机译: 光掩模装置,光学成像系统,用于确定衍射光学元件的光栅参数和吸收特性的方法以及用于制造衍射光学元件的方法
机译: 光掩模装置,光学成像系统,用于确定衍射光学元件的光栅参数和吸收特性的方法以及用于制造衍射光学元件的方法