公开/公告号CN102437033A
专利类型发明专利
公开/公告日2012-05-02
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;
申请/专利号CN201110206425.4
申请日2011-07-22
分类号H01L21/28(20060101);H01L21/336(20060101);
代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;
代理人王敏杰
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
入库时间 2023-12-18 05:04:15
机译: 浅沟槽隔离物的制造工艺和用于避免气泡缺陷的浅沟槽底表面处理工艺
机译: 浅沟槽隔离物的制造工艺和用于避免气泡缺陷的浅沟槽底表面处理工艺
机译: 避免在浅沟槽隔离中形成沟槽时出现凹陷的方法