带有氮气保护的真空式卡盘装置

摘要

本发明涉及半导体领域，具体为一种用以在半导体生产中的带有氮气保护的真空式卡盘装置，在晶圆处理过程中很多化学药品或者液体，需要应用在晶圆表面，起到了保护晶圆背面和晶圆真空卡盘系统的作用。该装置设有真空卡盘、在真空卡盘下方的氮气保护罩，在真空卡盘的下面设有氮气保护罩，氮气保护罩为倒扣的、镂空的碗型结构，在碗型结构中有氮气喷孔；在半导体生产的时候，真空卡盘卡住晶圆，真空卡盘带动晶圆旋转；同时，在晶圆背面真空卡盘一侧通过倒扣的碗型结构的氮气喷孔，喷出氮气来对真空卡盘和晶圆接触的部分进行保护。本发明可以实现在晶圆低速旋转或者静止时候，对晶圆背面进行氮气保护，防止化学品液体进入真空卡盘。