一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机

摘要

本发明涉及真空镀膜设备，具体地说是一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机，包括真空室、真空抽气系统及机架，真空室安装在机架上，真空抽气系统与真空室密封连接；所述真空室内设有与其密封连接的中心转轴，中心转轴的底端与安装在机架上的驱动电机的输出轴相连接；所述中心转轴的两侧对称设有安装在真空室内壁的离子束和弧源，中心转轴上设有与其共同转动的工件架；该工件架位于离子束和弧源的下方。本发明在真空室内安装了离子源和弧源，提高了圆柱靶材的利用率；在镀膜时离子源和弧源同时工作，利用离子源提高工作气体的离化率，对薄膜的光洁度和附着力有很大的提高。