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用于薄膜光伏材料硒化的自清洁大规模方法和熔炉系统

摘要

本发明提供了用于薄膜光伏材料的硒化的自清洁大规模方法和熔炉系统。本发明的利用自清洁熔炉制造铜铟二硒化物半导体膜的方法包括将多个基板转移至熔炉中,熔炉包括处理区域和至少一个与处理区域可拆卸接合的端帽区域,将多个基板中的每一个相对于重力方向垂直定向而设置,用数字N限定多个基板,其中N大于5,每个基板具有铜和铟复合结构。该方法还包括将包括氢物质和硒化物物质以及载气的气态物质引入熔炉中并将热能转移入熔炉中,从而使温度从第一温度升高至第二温度,第二温度的范围为约350℃至约450℃,以在每个基板上至少开始由铜和铟复合结构形成铜铟二硒化物膜;使熔炉的处理区域的内部区域的残余硒化物物质分解。

著录项

  • 公开/公告号CN102034896A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 思阳公司;

    申请/专利号CN201010503991.7

  • 发明设计人 罗伯特D·维廷;

    申请日2010-09-28

  • 分类号H01L31/18;C23C16/52;C23C16/04;C23C16/28;

  • 代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人李丙林

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2023-12-18 02:09:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L31/18 授权公告日:20150311 终止日期:20160928 申请日:20100928

    专利权的终止

  • 2015-03-11

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L31/18 变更前: 变更后: 申请日:20100928

    著录事项变更

  • 2015-03-11

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L31/18 变更前: 变更后: 登记生效日:20150206 申请日:20100928

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-03-11

    授权

    授权

  • 2012-10-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 申请日:20100928

    实质审查的生效

  • 2011-04-27

    公开

    公开

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