单侧高生产量湿蚀刻和湿处理设备与方法

摘要

本发明公开了一种处理系统，包括：多个卡盘，所述卡盘的每一个构造用于支撑基板，以使基板的底面露出；轨道，构造用于沿连续路径引导所述多个卡盘；和处理装置，构造用于当所述轨道在所述处理装置上方引导相应卡盘时处理每一个基板的底面，所述处理装置包括流体弯液面，所述流体弯液面布置用于当所述轨道在所述处理装置上方引导相应卡盘时与每一个基板的底面接触。