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掺杂类金刚石涂层的多离子束溅射沉积技术

摘要

一种制备掺杂类金刚石(DLC)涂层的多离子束溅射沉积方法,特征是首先利用超声波清洗去除工件表面污染层,利用离子源产生的氩离子束对工件表面进行离子束轰击清洗,获得原子级的清洁表面;然后利用离子束辅助溅射沉积方法制备梯度过渡层;最后在梯度过渡层上利用多离子束溅射+低能离子束辅助沉积合成多元掺杂DLC涂层。利用多离子束溅射+低能离子束辅助沉积合成多元掺杂DLC涂层的过程中,在溅射离子源轰击石墨靶和金属靶产生的碳粒子和金属粒子沉积到工件表面的同时,辅助沉积离子源产生的气体离子持续轰击生长的膜层表面,调控膜层微观结构和实现多元素掺杂。

著录项

  • 公开/公告号CN101787518A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国地质大学(北京);

    申请/专利号CN201010132905.6

  • 申请日2010-03-24

  • 分类号C23C14/34(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/02(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路29号

  • 入库时间 2023-12-18 00:05:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-05-02

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/34 公开日:20100728 申请日:20100324

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-01-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/34 申请日:20100324

    实质审查的生效

  • 2010-07-28

    公开

    公开

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