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离子束溅射沉积薄膜技术特点探讨

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摘要

离子束溅射技术是近些年发展起来的制备高质量薄膜的一种非常重要的方法,它具有其它制膜技术无法比拟的优点,在制膜过程中,由于沉积速度慢,膜的厚度及质量容易控制.本文主要介绍离子束溅射技术的原理、基本规律及应用前景.

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来源
《第十八届电子信息技术学术年会》|2016年|305-309|共5页
会议地点广州
作者
唐俐; 黎启胜; 王小龙; 王军;
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作者单位

四川省电子学会;

广东省电子学会;

重庆市电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
薄膜材料; 离子束溅射; 溅射阈能; 溅射产额;

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