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机译:在热二氧化硅上离子束溅射沉积制备(001)优先取向钛薄膜
机译:考夫曼离子束源无应力沉积[001]优先取向的钛薄膜
机译:利用脉冲激光沉积在硅片上制备(001)取向的PZT薄膜
机译:连续和不连续沉积时间在二氧化钛薄膜反应直流磁控溅射中的影响
机译:通过溅射沉积在硅(001)衬底上沉积的金薄膜的表面形态。
机译:在热生长的二氧化硅上沉积纳米柱优先取向的PSZT薄膜
机译:纳米柱优先取向的PSZT薄膜沉积在热生长的二氧化硅上。
机译:反应离子束溅射制备碳化硅薄膜。
机译:二氧化硅薄膜,二氧化硅-二氧化钛-复合薄膜及其制备方法
机译:钛镍合金薄膜及利用多次溅射法制备钛镍合金薄膜的方法
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