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具有原位监视和过程参数调谐的等离子体处理方法

摘要

本发明提供一种选择等离子体掺杂过程参数的方法,其包含确定一制法参数数据库以实现至少一个等离子体掺杂条件。根据所述制法参数数据库来确定初始制法参数。执行至少一个等离子体掺杂条件的原位测量。使所述至少一个等离子体掺杂条件的原位测量与至少一个等离子体掺杂结果相关。响应于所述相关而改变至少一个制法参数,以便改进至少一个等离子体掺杂过程性能量度。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/66 公开日:20090513 申请日:20070320

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-07-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-05-13

    公开

    公开

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