公开/公告号CN101432865A
专利类型发明专利
公开/公告日2009-05-13
原文格式PDF
申请/专利权人 瓦里安半导体设备公司;
申请/专利号CN200780015283.5
申请日2007-03-20
分类号H01L21/66;
代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司;
代理人寿宁
地址 美国麻萨诸塞州
入库时间 2023-12-17 21:53:28
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-23
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/66 公开日:20090513 申请日:20070320
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-07-08
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-05-13
公开
公开
机译: 原位监测和过程参数调整的等离子体处理方法
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