基于数学形态学的集成电路版图优化方法

摘要

本发明公开了一种利用数学形态学优化集成电路版图的方法，主要解决现有优化方法精确度低和非直观性的问题。本发明采用对不同类型的缺陷使用不同的版图优化方法，具体过程是：将待估计的集成电路各层平面版图按线网编号；对于冗余物缺陷，提取短路带权关键面积；对短路带权关键面积按线网对排序，根据排序结果，对版图进行第一次优化；对于丢失物缺陷，提取开路带权关键面积；对于开路带权关键面积，按线网排序，根据排序结果，对版图进行第二次优化。本发明具有版图优化精确度高简单易行的优点，可用于在微电子技术领域对集成电路版图的优化，进一步提升集成电路的成品率。