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含前侧应变超晶格层和背侧应力层的半导体器件和方法

摘要

一种半导体器件,该半导体器件可以包括:半导体衬底,其具有前后表面;与所述半导体衬底的前表面相邻并且包括多个堆叠的层组的应变超晶格层;以及,应力层,在所述衬底的后表面上,并且包括与半导体衬底不同的材料。所述应变超晶格层的每个层组可以包括:限定基本半导体部分的多个堆叠的基本半导体单层;以及至少一个非半导体单层,其被限制在相邻的基本半导体部分的晶格内。

著录项

  • 公开/公告号CN101371363A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 梅尔斯科技公司;

    申请/专利号CN200680042735.4

  • 发明设计人 K·V·劳;

    申请日2006-09-26

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人杜娟

  • 地址 美国马萨诸塞

  • 入库时间 2023-12-17 21:27:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-01-26

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/15 公开日:20090218 申请日:20060926

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-04-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-02-18

    公开

    公开

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