红外光学窗口用HfON/BP增透保护膜及其制备方法

摘要

本发明提供了一种HfON/BP红外光学增透保护膜及其制备工艺。该膜系可用作3～5μm、8～12μm波段红外光学窗口的增透保护膜，其结构为BP膜为内层膜，沉积于光学窗口表面，HfON膜为外层膜，沉积于BP膜上。BP膜的沉积采用射频等离子体增强CVD技术，HfON膜的沉积采用反应磁控溅射沉积工艺。在光学窗口表面沉积HfON/BP双层膜后，对窗口有增透作用，并可显著提高其表面硬度、改善其耐磨性和防腐蚀性，提高其抗雨蚀、砂蚀及盐雾腐蚀的能力，保证其在恶劣工作环境下正常工作。