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p型铜铁矿结构透明导电氧化物薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种p型铜铁矿结构透明导电氧化物薄膜的制备方法,是先按铜、铬和M的摩尔比为1∶(0.75~1)∶(0~0.25),称量氧化亚铜、氧化铬及金属M的氧化物,将原料混合后球磨;再将球磨之后的粉末压坯,制备成复合靶材,靶材为常温制备未经高温烧结,氧化亚铜和氧化铬及M的氧化物未发生化学反应;用得到的靶材通过脉冲激光沉积法在基板上沉积CuCr1-xMxO2薄膜,0≤x≤0.25。制得的铜铁矿结构多晶CuCr1-xMxO2(0≤x≤0.25)薄膜具有较高的电导率和可见光透过率,实验结果具备可重复。

著录项

  • 公开/公告号CN101215702A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-07-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200710192050.4

  • 申请日2007-12-27

  • 分类号C23C24/10(20060101);

  • 代理机构34112 安徽合肥华信知识产权代理有限公司;

  • 代理人余成俊

  • 地址 230031 安徽省合肥市蜀山湖路350号1125信箱

  • 入库时间 2023-12-17 20:23:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-02-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C24/10 授权公告日:20091118 终止日期:20131227 申请日:20071227

    专利权的终止

  • 2009-11-18

    授权

    授权

  • 2008-09-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-09

    公开

    公开

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