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针对大锡球的晶圆减薄制程

摘要

本发明提供一种针对大锡球的晶圆减薄制程,其中,该制程在锡球尚未回流成型之前先粘贴保护胶,然后再进行晶背研磨。该制程首先在晶圆上沉积一层金属介质层,在金属介质层上覆盖一层光胶层;利用光刻法在光胶层开孔;在光胶层的开孔内形成锡球;在光胶正面粘贴保护胶后进行晶背研磨。本发明还提供另一制程,首先在晶圆上沉积一层金属介质层,并在金属介质层上覆盖一层光胶层;利用光刻法在生长锡球的位置形成光胶保护区;蚀刻光胶保护区以外的金属介质层并去除光胶层;最后,在金属介质层的上方粘贴保护胶,然后进行晶背研磨。与现有技术相比,本发明即使利用普通的紫外胶也能很好地保护大锡球。

著录项

  • 公开/公告号CN101202201A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200610119538.X

  • 发明设计人 靳永刚;

    申请日2006-12-13

  • 分类号H01L21/00;H01L21/60;H01L21/304;

  • 代理机构上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人王洁

  • 地址 201203 上海市张江路18号

  • 入库时间 2023-12-17 20:19:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-08-04

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/00 公开日:20080618 申请日:20061213

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2008-08-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-06-18

    公开

    公开

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