在连续在线阴影掩模沉积工序中利用选择性等离子蚀刻形成过孔的系统及方法

摘要

本发明公开一种阴影掩模气相沉积系统，在该系统中，在基板上气相沉积第一导体，在所述第一导体上气相沉积绝缘体。然后至少在所述绝缘体上气相沉积第二导体。在气相沉积所述第二导体之前或之后等离子蚀刻所述绝缘体，以便在其中限定过孔，所述第一导体的至少一部分透过所述过孔露出。经由所述过孔在所述第一导体和所述第二导体之间建立电连接。