使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法

摘要

本发明公开一种在衬底上形成图像的方法，其包括以下步骤：(a)在衬底上涂覆第一层辐射敏感性抗反射组合物；(b)将第二层光刻胶组合物涂覆到第一层抗反射组合物上；(c)选择性地将得自步骤(b)的涂覆衬底在光化辐射下曝光；和(d)将得自步骤(c)的经曝光的涂覆衬底显影以形成图像；其中，将光刻胶组合物和抗反射组合物都在步骤(c)中曝光；使用单一的显影剂在步骤(d)中将两者都显影；其中步骤(a)的抗反射组合物是第一最小值底部抗反射涂层(B.A.R.C.)组合物，具有的固含量最高至约8％固体分，并且涂覆衬底的最大涂层厚度为[λ/2n]，其中λ为步骤(c)中光化辐射的波长，且n为B.A.R.C.组合物的折射率。