用于193nm光学光刻的侧墙铬衰减型移相掩模制作方法

摘要

一种用于193nm光学光刻的侧墙铬衰减型移相掩模制作方法，其工艺步骤如下：1.在熔石英衬基表面上淀积衰减型移相层薄膜；2.在衰减型移相层薄膜表面上甩电子束光刻胶，并进行电子束光刻、显影；3.各向异性刻蚀衰减型移相层薄膜；4.去除电子束光刻胶；5.在衰减型移相层薄膜表面上大面积淀积吸收体材料铬；6.各向同性刻蚀吸收体材料铬；7.清洗；8.特征尺寸及相对定位测量；9.缺陷检测与修补；10.衰减型移相器检测；11.安装表面粘贴膜，完成侧墙铬衰减型移相掩模的制作。