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高折射率纳米晶TiO2溶胶-凝胶薄膜制备的方法

摘要

一种高折射率纳米晶TiO2溶胶-凝胶薄膜制备的方法,钛醇盐先进行快速水解,然后用无机酸胶溶,在溶胶-凝胶过程中形成晶相TiO2纳米颗粒,从而显著提高目标光学薄膜的折射率。本发明具有操作简单、反应条件温和、大面积无规则镀制、设备成本低和光学薄膜折射率高的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN101012107A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-08-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院山西煤炭化学研究所;

    申请/专利号CN200710061505.9

  • 发明设计人 徐耀;盛永刚;吴东;孙予罕;

    申请日2007-02-07

  • 分类号C03C17/23(20060101);C01G23/053(20060101);

  • 代理机构山西五维专利事务所有限公司;

  • 代理人李毅

  • 地址 030001 山西省太原市165信箱

  • 入库时间 2023-06-18 16:51:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-04-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C03C17/23 授权公告日:20100310 终止日期:20130207 申请日:20070207

    专利权的终止

  • 2010-03-10

    授权

    授权

  • 2007-10-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-08

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明属于TiO2光学薄膜的制备方法,具体地说是在溶胶-凝胶过程中形成纳米晶TiO2,然后镀制薄膜,从而明显提高薄膜的折射率的方法。

技术背景

TiO2具有高度的化学稳定性和高折射率,同时在可见和近红外区域具有高透明度和低吸收,常用做光学薄膜材料,广泛应用于高反射膜、减反射膜、光纤以及波导材料。目前用于制备光学薄膜的方法很多,包括电子束蒸镀、阴极真空喷镀、化学气相沉积和溶胶-凝胶法沉积等。其中溶胶-凝胶法具有以下优点:同质性好、组成容易控制、低温制备和设备成本低。尤其是溶胶-凝胶方法容易实现在不规则形状、不同材料的基底上大面积镀制薄膜。然而,传统溶胶-凝胶方法往往采用鳌合剂与钛醇盐络合,控制钛醇盐的水解、缩聚过程,从而形成交联度较高的疏松的无定形TiO2溶胶,此TiO2溶胶镀制的薄膜折射率较低,大大限制了TiO2作为高折射率材料在光学设备中的应用。

对于同一化学组成材料来说,晶体的折射率一般要远远高于无定形材料,所以如果能够在溶胶-凝胶过程中形成晶相TiO2将会明显提高薄膜的折射率。

发明内容

本发明目的是提供一种操作简单、低温以及设备成本低的高折射率纳米晶TiO2溶胶-凝胶薄膜制备的方法。

本发明的目的是这样实现的:首先以大量的水使钛醇盐完全水解,然后加入无机酸胶溶,经过水热过程形成纳米晶溶胶,再以旋涂法镀制高折射率TiO2光学薄膜。

本发明的制备方法如下:

(1)纳米晶溶胶制备:

钛酸四异丙酯(TTIP)和乙醇按摩尔比0.5~1∶1反应2~10分钟得到透明液体,将该液体滴加到去离子水中,使钛酸四异丙酯与水的摩尔比为1∶80~120,同时强烈搅拌,形成白色悬浊液后,用无机酸调节pH值在1~3之间,然后经过10~30分钟超声处理,在80~160℃反应5~20小时,得到纳米晶溶胶;

(2)光学薄膜镀制:

将纳米晶溶胶在50~80℃下浓缩至TiO2质量浓度为3~5%,在转速2000~4000rpm之间采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到基片上,继续旋转10~30分钟,所得薄膜在110~120℃干燥10~30分钟。

如上所述的无机酸是HCl或HNO3

本发明与现有技术相比具有如下优点:

1.操作简单、反应条件温和;

2.可以在大面积不规则基片上镀制薄膜;

3.镀膜所需设备成本低;

4.纳米晶溶胶镀制的薄膜折射率可达1.9以上。

具体实施方式

实施例1

钛酸四异丙酯(TTIP)和乙醇按摩尔比0.5∶1反应2分钟得到透明液体。之后,将该液体滴加到去离子水中,使TTIP与水的摩尔比为1∶80,同时强烈搅拌。形成白色悬浊液后,用HCl调节pH值为1,然后经过10分钟超声处理,在160℃反应5小时,得到纳米晶溶胶。

将纳米晶溶胶50℃下浓缩至TiO2质量浓度为3%。在转速2000rpm下采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到K9玻璃基片上,继续旋转10分钟,所得薄膜在110℃干燥10分钟。薄膜经椭偏仪测定,在550nm处的折射率为1.9126。

实施例2

钛酸四异丙酯(TTIP)和乙醇按摩尔比0.5∶1反应5分钟得到透明液体。之后,将该液体滴加到去离子水中,使TTIP与水的摩尔比为1∶100,同时强烈搅拌。形成白色悬浊液后,用HCl调节pH值为2,然后经过15分钟超声处理,在100℃反应10小时,得到纳米晶溶胶。

将纳米晶溶胶50℃下浓缩至TiO2质量浓度为4%。在转速3000rpm下采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到K9玻璃基片上,继续旋转10分钟,所得薄膜在110℃干燥15分钟。薄膜经椭偏仪测定,在550nm处的折射率为1.9022。

实施例3

钛酸四异丙酯(TTIP)和乙醇按摩尔比1∶1反应3分钟得到透明液体。之后,将该液体滴加到去离子水中,使TTIP与水的摩尔比为1∶100,同时强烈搅拌。形成白色悬浊液后,用HNO3调节pH值为1.5,然后经过15分钟超声处理,在150℃反应5小时,得到纳米晶溶胶。

将纳米晶溶胶80℃下浓缩至TiO2质量浓度为3%。在转速2000rpm下采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到石英玻璃基片上,继续旋转10分钟,所得薄膜在120℃干燥10分钟。薄膜经椭偏仪测定,在550nm处的折射率为1.9102。

实施例4

钛酸四异丙酯(TTIP)和乙醇按摩尔比0.8∶1反应5分钟得到透明液体。之后,将该液体滴加到去离子水中,使TTIP与水的摩尔比为1∶120,同时强烈搅拌。形成白色悬浊液后,用HCl调节pH值为2,然后经过30分钟超声处理,在150℃反应6小时,得到纳米晶溶胶。

将纳米晶溶胶60℃下浓缩至TiO2质量浓度为5%。在转速4000rpm下采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到K9玻璃基片上,继续旋转15分钟,所得薄膜在110℃干燥30分钟。薄膜经椭偏仪测定,在550nm处的折射率为1.9081。

实施例5

钛酸四异丙酯(TTIP)和乙醇按摩尔比0.8∶1反应5分钟得到透明液体。之后,将该液体滴加到去离子水中,使TTIP与水的摩尔比为1∶100,同时强烈搅拌。形成白色悬浊液后,用HNO3调节pH值为2,然后经过15分钟超声处理,在80℃反应20小时,得到纳米晶溶胶。

将纳米晶溶胶70℃下浓缩至TiO2质量浓度为4%。在转速3000rpm下采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到K9玻璃基片上,继续旋转30分钟,所得薄膜在115℃干燥20分钟。薄膜经椭偏仪测定,在550nm处的折射率为1.9065。

实施例6

钛酸四异丙酯(TTIP)和乙醇按摩尔比1∶1反应10分钟得到透明液体。之后,将该液体滴加到去离子水中,使TTIP与水的摩尔比为1∶110,同时强烈搅拌。形成白色悬浊液后,用HCl调节pH值为1.5,然后经过15分钟超声处理,在120℃反应8小时,得到纳米晶溶胶。

将纳米晶溶胶60℃下浓缩至TiO2质量浓度为3%。在转速2000rpm下采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到石英玻璃基片上,继续旋转20分钟,所得薄膜在115℃干燥20分钟。薄膜经椭偏仪测定,在550nm处的折射率为1.9138。

实施例7

钛酸四异丙酯(TTIP)和乙醇按摩尔比0.5∶1反应5分钟得到透明液体。之后,将该液体滴加到去离子水中,使TTIP与水的摩尔比为1∶120,同时强烈搅拌。形成白色悬浊液后,用HNO3调节pH值为3,然后经过10分钟超声处理,在150℃反应5小时,得到纳米晶溶胶。

将纳米晶溶胶50℃下浓缩至TiO2质量浓度为5%。在转速4000rpm下采用旋涂法,将浓缩后的纳米晶溶胶镀制到石英玻璃基片上,继续旋转20分钟,所得薄膜在110℃干燥20分钟。薄膜经椭偏仪测定,在550nm处的折射率为1.9082。

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