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合成石英玻璃制成的光掩模基片和光掩模

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摘要

提供了一种具有低的双折射、可以使用偏振辐照或进行浸没曝光的光掩模基片。一种由合成石英玻璃制成的光掩模基片，该基片用来使用具有最多约200纳米的曝光波长的光源制造半导体，该基片在曝光波长下的双折射最多为1纳米/6.35毫米，使用照度为13.2毫瓦/厘米

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2011-03-23

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/14 公开日:20070314 申请日:20050304

发明专利申请公布后的视为撤回
2007-05-16

实质审查的生效

实质审查的生效
2007-03-14

公开

公开

1. 合成石英玻璃制成的光掩模基片和光掩模 [P] . 中国专利： CN1930521A . 2007-03-14
2. 光掩模基板的制造方法、光掩模基板、光掩模的制造方法和光掩模 [P] . 中国专利： CN110967919A . 2020-04-07
3. Photomask substrate made of synthetic quartz glass and photomask [P] . 美国专利： US7491475B2 . 2009-02-17

机译：由合成石英玻璃和光掩模制成的光掩模基板
4. Photomask substrate made of synthetic quartz glass and photomask [P] . 美国专利： US2006246363A1 . 2006-11-02

机译：由合成石英玻璃和光掩模制成的光掩模基板
5. Method of manufacturing a storage case of synthetic quartz glass substrate or photomask blank for a photomask [P] . 日本专利： JP5663996B2 . 2015-02-04

机译：制造合成石英玻璃基板或用于光掩模的光掩模坯料的存储盒的方法