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International conference on extreme ultraviolet lithography
International conference on extreme ultraviolet lithography
召开年:
2018
召开地:
Monterey(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Development of full-size EUV pellicle with thermal emission layer coating
机译:
开发具有散热层涂层的全尺寸EUV防护膜
作者:
Juhee Hong
;
Chulkyun Park
;
Changhun Lee
;
Keesoo Nam
;
Yongju Jang
;
Seongju Wi
;
Jinho Ahn
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
Extreme ultraviolet lithography;
pellicle;
EUV scanning process;
transmittance;
2.
EUV Mask Characterization with Actinic Scatterometry
机译:
光化学散射法对EUV掩模的表征
作者:
Stuart Sherwin
;
Andrew Neureuther
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
3.
Defect Avoidance for Extreme Ultraviolet Mask Defects using Intentional Pattern Deformation
机译:
使用故意图案变形避免极端紫外线掩模缺陷的缺陷
作者:
Yoo-Jin Chae
;
Rik Jonckheere
;
Puneet Gupta
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV lithography;
mask blank defects;
defect avoidance;
pattern deformation;
4.
Improvement of CD stability and defectivity in resist coating and developing process in EUV lithography process
机译:
提高EUV光刻工艺中抗蚀剂涂层和显影工艺中CD的稳定性和缺陷性
作者:
Yuya Kamei
;
Shinichiro Kawakami
;
Masahide Tadokoro
;
Yusaku Hashimoto
;
Takeshi Shimoaoki
;
Masashi Enomoto
;
Kathleen Nafus
;
Akihiro Sonoda
;
Philippe Foubert
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUVL;
residue;
single-closed hole;
rinse process;
material supply system;
CD uniformity;
development process;
5.
Debris free high brightness light source based on LPP for actinic EUV microscopy and metrology applications
机译:
基于LPP的无碎片高亮度光源,用于光化EUV显微镜和计量学应用
作者:
Konstantin Koshelev
;
Alexander Vinokhodov
;
Oleg Yakushev
;
Alexey Yakushkin
;
Dimitri Abramenko
;
Alexander Lash
;
Mikhail Krivokorytov
;
Yuri Sidelnikov
;
Vladimir lvanov
;
Vladimir Krivtsun
;
Vyacheslav Medvedev
;
Denis Glushkov
;
Pavel Seroglazov
;
Samir Ellwi
;
Rainer Lebert
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
6.
Lateral shearing interferometry for high-NA EUV wavefront metrology
机译:
高NA EUV波前测量的横向剪切干涉术
作者:
Wenhua Zhu
;
Ryan Miyakawa
;
Lei Chen
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
Lateral shearing interferometry;
Wavefront sensing;
EUV extendibility;
Aberrations;
7.
EUV sensitizer for resists and spin-on-carbon materials
机译:
用于抗蚀剂和旋涂碳材料的EUV敏化剂
作者:
Takashi Sato
;
Yuta Togashi
;
Sachiko Shinjo
;
Takumi Toida
;
Takashi Makinoshima
;
Masatoshi Echigo
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
8.
NXE:3400B imaging performance assessed from a customer perspective
机译:
从客户角度评估NXE:3400B成像性能
作者:
Friso Wittebrood
;
Guido Schiffelers
;
Colette Legein
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
9.
Measurement and Modeling of Diffusion Characteristics in EUV Resist
机译:
EUV抗蚀剂中扩散特性的测量和建模
作者:
Luke Long
;
Andrew Neureuther
;
Patrick Naulleau
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
10.
Rapid Image-Based Pupil Plane Characterization for EUV Lithography Systems
机译:
EUV光刻系统的基于图像的快速学生平面表征
作者:
Zac Levinson
;
Erik Verduijn
;
Timothy Brunner
;
Obert Wood
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《》
|
2018年
关键词:
EUV lithography;
EUV aberrations;
aberration metrology;
image-based aberration metrology;
pupil characterization;
11.
Non-Gaussian CD distribution characterization for DRAM application in EUV lithography
机译:
EUV光刻中DRAM应用的非高斯CD分布特性
作者:
Alessandro Vaglio Pret
;
Inhwan Lee
;
Mijung Lim
;
David Blankenship
;
Trey Graves
;
Stewart A. Robertson
;
John J. Biafore
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
12.
Ion Beam Processing for Critical EUV Photomask Process Steps: Mask Blank Deposition and Photomask Absorber Etch
机译:
关键EUV光掩模工艺步骤的离子束处理:掩模毛坯沉积和光掩模吸收剂蚀刻
作者:
Katrina Rook
;
Meng H. Lee
;
Narasimhan Srinivasan
;
Vincent Ip
;
Sandeep Kohli
;
Mathew S. Levoso
;
Frank Cerio
;
Adrian J. Devasahayam
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
Extreme Ultraviolet;
EUV;
Ion Beam;
Etch;
Ion Beam Deposition;
Absorber;
Multilayer;
13.
New Resist and Underlayer Approaches toward EUV Lithography
机译:
EUV光刻的新抗蚀剂和底层方法
作者:
Juha Rantala
;
Thomas Gadda
;
Markus Laukkanen
;
Nguyen Dang Luong
;
Kimmo Karaste
;
Dimitrios Kazazis
;
Yasin Ekinci
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
structure-property correlation;
silicon compounds;
EUV lithography;
E-beam lithography;
RLS trade-off;
Non-CAR;
14.
Integration via 3rd Dimension: 3D Power Scaling
机译:
通过3D维度进行集成:3D Power Scaling
作者:
Paolo A. Gargini
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
15.
Holographic masks for computational proximity lithography with EUV radiation
机译:
具有EUV辐射的计算近距离光刻的全息掩模
作者:
V. Deuter
;
M. Grochowicz
;
S. Brose
;
J. Biller
;
S. Danylyuk
;
T. Taubner
;
D. Gruetzmacher
;
L. Juschkin
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV-IL;
computational proximity lithography;
Fresnel diffraction;
proximity lithography;
phase-shift;
spatial coherence;
hologram;
mask fabrication;
16.
NXE:3400B EUV source performance in the field, readiness for HVM and power scaling beyond 250W
机译:
NXE:3400B EUV光源在现场的性能,支持HVM以及功率扩展超过250W
作者:
Igor V. Fomenkov
;
Michael A. Purvis
;
Alexander A. Schafgans
;
Yezheng Tao
;
Slava Rokitski
;
Jayson Stewart
;
Andrew LaForge
;
Alexander I. Ershov
;
Robert J. Rafac
;
Silvia De Dea
;
Chirag Rajyaguru
;
Georgiy O. Vaschenko
;
Mathew Abraham
;
David C.Brandt
;
Daniel J. Brown
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
17.
Reflectance Measurement of EUV Mirrors with s- and p-Polarized Light Using Polarization Control Units
机译:
使用偏振控制单元使用s和p偏振光测量EUV镜的反射率
作者:
Tetsuo Harada
;
Takeo Watanabe
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV lithography;
EUV reflectometer;
EUV reflectometry;
polarization control unit;
Mo/Si multilayer;
18.
Accelerator-based compact extreme ultraviolet (EUV) sources for lithography
机译:
用于光刻的基于促进剂的紧凑型极紫外(EUV)光源
作者:
Juhao Wu
;
Alexander W. Chao
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV Lithography;
Accelerator-Based EUV source;
Steady-State Microbunching (SSMB);
High-Gain Inverse Compton Source;
19.
EUV stochastic defect monitoring with advanced broadband optical wafer inspection and e-beam review systems
机译:
具有先进的宽带光学晶圆检查和电子束检查系统的EUV随机缺陷监控
作者:
Kaushik Sah
;
Andrew Cross
;
Martin Plihal
;
Vidyasagar Anantha
;
Raghav Babulnath
;
Derek Fung
;
Peter De Bisschop
;
Sandip Halder
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV stochastics;
stochastic printing defects;
EUV random printing defects;
optical inspection;
broadband plasma;
NOK metric;
Stochalis;
K-means clustering;
20.
EUV pupil optimization for 32nm pitch logic structures
机译:
用于32nm间距逻辑结构的EUV光瞳优化
作者:
D. Rio
;
V. Blanco
;
J.-H. Franke
;
W. Gillijns
;
M. Dusa
;
E. De Poortere
;
P. Van Adrichem
;
K. Lyakhova
;
C. Spence
;
E. Hendrickx
;
S. Biesmans
;
K. Nafus
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
SMO;
EUV Pupil optimization;
NXE:3300;
NXE:3400;
Computational lithography;
32 nm pitch logic;
tip-to-tip;
line-space;
NILS;
21.
EUV industrialization High Volume Manufacturing with NXE3400B
机译:
借助NXE3400B实现EUV工业化大批量生产
作者:
Marcel Mastenbroek
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
22.
Massive CD metrology for EUV failure characterization and EPE metrology
机译:
适用于EUV故障表征和EPE计量的大规模CD计量
作者:
Harm Dillen
;
Yi-Hsin Chang
;
Fei Wang
;
Marc Kea
;
Gijsbert Rispens
;
Marleen Kooiman
;
Fuming Wang
;
Stefan Hunsche
;
Daniel Tien
;
Peng Tang
;
Pengcheng Zhang
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
23.
Introduction
机译:
介绍
作者:
Kurt G. Ronse
;
Eric Hendrickx
;
Patrick P. Naulleau
;
Paolo A. Gargini
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
24.
Current Challenges and Opportunities for EUV Lithography
机译:
EUV平版印刷术当前的挑战和机遇
作者:
Harry J. Levinson
;
Timothy A. Brunner
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
Lithography;
EUV;
computational lithography;
photoresists;
reticles;
masks;
25.
OPTIMIZATION AND STABILITY OF CD VARIABILITY IN PITCH 40 NM CONTACT HOLES ON NXE:3300
机译:
NXE:3300上40 NM接触孔中CD变异性的优化和稳定性
作者:
Lieve Van Look
;
Joost Bekaert
;
Andreas Frommhold
;
Eric Hendrickx
;
Gijsbert Rispens
;
Guido Schiffelers
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV lithography;
NXE:3300;
contact holes;
critical dimension uniformity;
slit uniformity;
local CDU;
stochastic noise;
reticle contribution;
26.
A tool for full area inband EUV transmission mapping of EUV pellicles
机译:
EUV防护膜的全区域带内EUV传输映射的工具
作者:
C. Pampfer
;
A. Biermanns-Foeth
;
T. Missalla
;
J. Arps
;
C. Phiesel
;
C. Piel
;
R. Lebert
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
27.
Pattern degradation with larger particles on EUV pellicle
机译:
在EUV防护膜上有较大颗粒的图形退化
作者:
Hee-Ra No
;
Sung-Gyu Lee
;
Se-Hun Oh
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV pellicle;
particle defect;
CD degradation;
CD uniformity;
EUV lithography;
28.
AIMER™: full reticle area, scanner-effective EUV mapping reflectometry
机译:
AIMER™:整个标线面积,对扫描仪有效的EUV映射反射仪
作者:
A. Biermanns-Foeth
;
C. Phiesel
;
T. Missalla
;
J. Arps C. Piel
;
R. Lebert
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV metrology;
reflectometry;
transmission;
Masks;
EUV mask blanks;
29.
STATE-OF-THE-ART OF EUV MATERIALS FOR N5 LOGIC AND DRAM APPLICATIONS
机译:
用于N5逻辑和DRAM应用的EUV材料的最新技术
作者:
DANILO DE SIMONE
;
YANNICKVESTERS
;
PIETERVANELDEREN
;
XUE RAN
;
IVAN POLLENTIER
;
GEERTVANDENBERGHE
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
30.
Spatially resolved reflectometry for EUV optical components
机译:
EUV光学组件的空间分辨反射法
作者:
Frank Scholze
;
Andreas Fischer
;
Claudia Tagbo
;
Christian Buchholz
;
Victor Soltwisch
;
Christian Laubis
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV optical characterization;
EUV mask;
EUV transparent membranes;
31.
Development of absorption-coefficient-measurement method of EUV resist by direct-resist coating on a photodiode
机译:
在光电二极管上进行直接抗蚀涂层的EUV抗蚀剂吸收系数测量方法的发展
作者:
Shota Niihara
;
Tetsuo Harada
;
Takeo Watanabe
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV lithography;
EUV resist;
Absorption coefficient;
Transmittance measurement;
XRR;
32.
Accelerate Lithography Improvement for High Performance Computing
机译:
加快光刻技术的改进以实现高性能计算
作者:
John Y. Chen
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
33.
Using Resonant Soft X-ray Scattering to Image Patterns on Undeveloped Resists
机译:
使用共振软X射线散射对未显影抗蚀剂上的图像图案
作者:
Guillaume Freychet
;
Isvar A. Cordova
;
Terry McAfee
;
Dinesh Kumar
;
Ronald J. Pandolfi
;
Chris Anderson
;
Patrick Naulleau
;
Cheng Wang
;
Alexander Hexcmer
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
34.
IBM Research Semiconductor Group
机译:
IBM研究半导体集团
作者:
Anuja De Silva
;
Luciana Meli
;
Jing Guo
;
Jennifer Church
;
Nelson M. Felix
;
Dario L. Goldfarb
;
Bharat Kumar
;
Rudy J. Wojtecki
;
Magi Mettry
;
Alexander Hess
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
35.
Optimization of absorber and multilayer in EUV mask for 1D and 2D patterns
机译:
用于1D和2D图案的EUV掩模中的吸收体和多层的优化
作者:
Zhizhen Yang
;
Taian Fan
;
Lisong Dong
;
Yayi Wei
;
Yanrong Wang
;
Jing Zhang
;
Jiang Yan
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV;
absorber;
multilayer;
source morphology;
M3D;
co-optimization;
36.
Key components development progress of high-power LPP-EUV light source with unique debris mitigation system using a magnetic field
机译:
具有独特的磁场消除系统的大功率LPP-EUV光源的关键部件开发进展
作者:
Yuichi Nishimura
;
Tsukasa Hori
;
Takayuki Yabu
;
Katsuhiko Wakana
;
Yoshifumi Ueno
;
Georg Soumagne
;
Shinji Nagai
;
Tatsuya Yanagida
;
Yasufumi Kawasuji
;
Yutaka Shiraishi
;
Tamotsu Abe
;
Hiroaki Nakarai
;
Takashi Saito
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
关键词:
EUV light source;
EUV lithography;
Laser produced plasma;
Debris mitigation;
Magnetic field;
Tin droplet target;
CO_2 laser;
Pre-pulse laser;
37.
Actinic tools for EUV resist characterization in research and production
机译:
用于EUV的光化工具可抵抗研究和生产中的表征
作者:
R. Lebert
;
T. Missalla
;
C. Phiesel
;
C. Piel
;
S. Brose
;
S. Danylyuk
;
P. Loosen
;
K. Bergmann
;
J. Vieker
会议名称:
《International conference on extreme ultraviolet lithography》
|
2018年
38.
In-Situ Measurement of Outgassing Generated from EUV Metal Oxide Nanoparticles Resist During Electron Irradiation
机译:
EUV金属氧化物纳米粒子在电子辐照过程中产生的脱气的原位测量
作者:
Y. Minami
;
S. Takahashi
;
H. Minami
;
Y. Matsumoto
;
M. Kadoi
;
A. Sekiguchi
;
T. Watanabe
会议名称:
《》
|
2018年
关键词:
EUV metal resist;
ligand;
electron irradiation;
in-situ outgas measurement;
mass spectrometry;
ZrO_2;
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