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减少投影相对扭曲率的投影镜头、光学投影装置及方法

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摘要

一种减少投影相对扭曲率的光学投影装置，包括一投影镜头，此投影镜头符合特定的扭曲率曲线。扭曲率曲线为一投影镜头的扭曲率及投影光场高度的对应关系。本发明所提出的投影镜头符合一特定扭曲率曲线，此特定扭曲率曲线设计为相对扭曲率较小，即一光场高度区间内的扭曲率差异值，小于此区间成一直线时的扭曲率差异值。

公开/公告号CN1877385A

专利类型发明专利
公开/公告日2006-12-13

原文格式PDF
申请/专利权人明基电通股份有限公司;
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申请/专利号CN200510076351.1
发明设计人李政光;陈荣耀;王志远;
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申请日2005-06-10
分类号G02B13/16(20060101);G02B13/18(20060101);G02B27/18(20060101);G03B21/00(20060101);H04N5/74(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人魏晓刚;李晓舒
地址中国台湾
入库时间 2023-12-17 17:55:29

1. 减少投影相对扭曲率的投影镜头、光学投影装置及方法 [P] . 中国专利： CN1877385A . 2006-12-13
2. 投影镜头及使用该投影镜头的投影式显示装置及背面投影式显示装置 [P] . 中国专利： CN1860398A . 2006-11-08
3. And a projection lens manufactured projector lens manufacturing equipment, a projection lens manufacturing method, by the projection lens manufacturing method, a projector provided with the projection lens [P] . 日本专利： JPWO2004001477A1 . 2005-10-20

机译：以及由投影镜头制造的投影镜头制造设备，投影镜头制造方法，通过该投影镜头制造方法的具备该投影镜头的投影仪
4. Projection lens, optical apparatus including projection lens, and method for manufacturing projection lens [P] . 美国专利： US8810930B2 . 2014-08-19

机译：投影镜头，包括投影镜头的光学设备以及制造投影镜头的方法
5. Optical arrangement for projection lens of extreme UV (EUV) projection exposure system for manufacturing e.g. LCD, has diaphragm that is arranged outside workspace of projecting lens, based on operating position of positioning device [P] . 德国专利： DE102011077315A1 . 2012-08-02

机译：极紫外（EUV）投影曝光系统的投影镜头的光学装置，例如用于制造LCD，根据定位装置的操作位置，将光圈设置在投影镜头的工作空间之外