公开/公告号CN1823303A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-08-23
原文格式PDF
申请/专利权人 AZ电子材料(日本)株式会社;
申请/专利号CN200480020014.4
申请日2004-06-03
分类号G03F7/32;
代理机构北京三幸商标专利事务所;
代理人刘激扬
地址 日本国东京都
入库时间 2023-12-17 17:38:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-03-14
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-23
公开
公开
机译: 形成抗蚀底层膜的聚合物及其生产方法,形成抗蚀底层膜的组合物,抗蚀底层膜以及制造图案化基材的方法
机译: 有源光敏感或辐射敏感树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,制造电子设备的方法,具有抗蚀膜的面膜毛坯以及具有抗蚀膜的面膜的图案形成方法
机译: 化学增幅型正性光敏树脂组合物,光敏性干膜,制备光敏性干膜的方法,制备图案化抗蚀膜的方法,用基体制造模板的方法及制备物和MERCAPTO化合物