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用于光敏组合物的显影液和形成图案化抗蚀膜的方法

摘要

本发明提供了一种显影液,它能以简便方式显影光敏组合物,同时保持令人满意的感光度和分辨率,还提供了一种使用所述显影液形成图案的方法。这种显影液包含一种含选自由胺-N-氧化物基、磺酸根、硫酸根、羧酸根和磷酸根组成的组中的亲水基的化合物,它特别适合用于含有含硅聚合物的光敏组合物的显影。本发明还涉及使用所述显影液形成图案的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN1823303A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-08-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AZ电子材料(日本)株式会社;

    申请/专利号CN200480020014.4

  • 发明设计人 长原达郎;武藤正;林昌伸;

    申请日2004-06-03

  • 分类号G03F7/32;

  • 代理机构北京三幸商标专利事务所;

  • 代理人刘激扬

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2023-12-17 17:38:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-03-14

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-08-23

    公开

    公开

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