法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-12-07
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H03H3/02 公开日:20051019 申请日:20030917
发明专利申请公布后的驳回
2005-12-14
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-10-19
公开
公开
机译: 晶体取向依赖性各向异性刻蚀在硅<110>晶片上制造薄膜体声谐振器
机译: 晶体取向依赖性各向异性刻蚀在硅<110>晶片上制造薄膜体声谐振器
机译: 使用依赖于晶体取向的各向异性蚀刻在硅<110>晶片上制造薄膜压电谐振器