在热敏正性石印印板材料上精确曝光小网点的方法

摘要

公开了借助于石印印板材料精确再现包含微网点的优质半色调图像的方法，所述石印印板材料包含需要湿法处理的热敏正性涂层。这种微网点具有≤25微米的网点尺寸，并且可以通过随机屏蔽或者通过调幅屏蔽以不低于150lpi的网目线数来获得。已经认识到，“物理的正确曝光能量密度”(物理的REED)处于CP到1.5*CP范围内，其中物理的REED被定义为这样的能量密度，在这样的能量密度下，由对应于图像数据中的50％半色调的微网点占据的印板上的物理区域与50％目标值一致；并且其中CP是印板的清除点，其被定义为在处理之后使涂层的95％溶解所需要的最低能量密度。因此，微网点的精确再现可以通过用能量密度在CP到1.5*CP范围中的光来曝光所述材料来实现。由此避免了由于曝光过度而导致的微网点损失。