法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-02-25
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-05-30
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-10-19
公开
公开
机译: 半导体器件制造的掩膜图案,形成方法及其制造精细图案化的半导体器件的方法
机译: 用于半导体器件制造的掩膜图案,形成其的方法以及制造精细图案化的半导体器件的方法
机译: 用于制造半导体器件的掩模图案,其形成方法,用于形成精细图案的涂层组合物的制备方法以及用于制造半导体器件的方法