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Patent Issued for Method of Manufacturing Fine Patterns of Semiconductor Device

机译:半导体器件精细图案制造方法已获专利

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2013 MAR 20 (VerticalNews) -- By a News Reporter-Staff News Editor at Journal of Engineering -- FromnAlexandria, Virginia, VerticalNews journalists report that a patent by the inventors Lee, Ki Lyoungn(Hwaseong-si, KR); Park, Sa Ro Han (Yongin-si, KR), filed on December 30, 2009, was cleared andnissued on March 5, 2013.
机译:2013年3月20日(垂直新闻)-《工程杂志》的新闻记者-工作人员新闻编辑-美国弗吉尼亚州弗罗姆亚历山大市,VerticalNews记者报道说,发明人李基隆(Kwaseong-si,KR)拥有一项专利; 2009年12月30日提交的Park,Sa Ro Han(Kongin-si,KR)已于2013年3月5日清除并发布。

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