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公开/公告号CN1581512A
专利类型发明专利
公开/公告日2005-02-16
原文格式PDF
申请/专利权人 杨金玉;
申请/专利号CN03134454.2
发明设计人 杨金玉;
申请日2003-08-01
分类号H01L29/786;H01L21/336;
代理机构
代理人
地址 710071 陕西省西安市西安电子科技大学离退休办公室
入库时间 2023-12-17 15:55:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-04-25
发明专利申请公布后的视为撤回
2005-02-16
公开
机译: 一种通过脉冲离子束或离子束对样品表面进行改性的方法,所述离子束或离子束具有均匀或高斯分布的电流密度
机译: 通过在半导体材料的沟道端设置支撑工业端阈值设置来提高p沟道晶体管的电荷载流子迁移率
机译:晕圈注入对锗p沟道金属氧化物半导体场效应管的热载流子可靠性的影响
机译:电荷和载流子在聚合物和复合材料(聚合物-金纳米粒子)场效应管结构的活性区域中的积累和松弛效应
机译:对半导体材料和器件中载流子寿命的物理理解和技术控制:对概念发展,技术水平和应用的批评
机译:短沟道MOS场效应管-多壁自对准MOS场效应管的新制造方法
机译:材料的脉冲离子束表面改性(硅,硅化物,亚稳)。
机译:石墨烯一种用于高温器件的材料–固有载流子密度载流子漂移速度和晶格能
机译:离子束特殊问题/表面改性和材料钝化。表面改性和离子束技术。
机译:离子后向散射和沟道的材料分析。离子辐照的材料改性及实施。