用于显微光刻中的抗反射层

摘要

包含支持体和至少一个抗反射层的元件，其中抗反射层由含有聚合物的组合物制备，所述聚合物选自(a)含有衍生自至少一种烯属不饱和化合物的重复单元的含氟共聚物，其特征在于至少一种烯属不饱和化合物是多环的；(b)含有被保护酸基团的支化聚合物，所述聚合物含有沿直链主链段化学连接的一个或多个支链段；(c)带有具有结构：－C(R