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李保第; 刘福庆; 付兴昌; 张绵;
河北半导体研究所;
扫描电子显微镜; 栅光刻; 二次电子; 背散射电子; 荷电;
机译:使用SF_6 / O_2等离子清洁技术减少蚀刻缺陷并优化光刻胶掩膜栅多晶硅蚀刻工艺中的蚀刻配方
机译:电子束光刻法制备菲涅耳波带片及其在测量临界尺寸扫描电子显微镜性能中的应用
机译:基于扫描电子显微镜的高速高精度偏转器在电子束光刻系统中的应用
机译:40 nm节点双栅光刻工艺开发中的问题与解决方案
机译:融合沉积建模和立体光刻工艺在护理现场生物测定平台制造中的应用。
机译:栅堆叠结构和工艺缺陷对32 nm工艺节点PMOSFET中NBTI可靠性的高k介电依赖性的影响
机译:LS-SOG聚焦离子束光刻技术的研究及其在半导体器件制造工艺中的应用
机译:用于太空飞行应用的凹窝球栅阵列工艺开发
机译:单蚀刻工艺形成硅电极头的方法及其在浮栅形成中的应用
机译:单刻蚀工艺形成硅尖的方法及其在浮栅形成中的应用
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