光掩模坯体，光掩模，制造光掩模坯体的方法和设备

摘要

本发明一般涉及光掩模坯体，光掩模，制造光掩模坯体的方法和设备，具体涉及利用粒子束溅射制造光掩模坯体的方法和设备。本发明的目的是提供一种制造高质量和高稳定性光掩模坯体的方法，它适合于制造有微小结构的光掩模。本发明提出一种制造光掩模坯体的方法，其中基片和靶放置在真空室。所述靶的溅射是利用辐照。利用第一粒子或离子束，通过所述靶的所述溅射，在所述基片上至少淀积第一层的第一材料。