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用于通过局部气流增强来生成超净微环境的设备和方法

摘要

提供了一种用于在机械性活动传输接口的局部区域中产生减少了微粒的环境的方法。气流的增强产生了扫气气流,以去除所希望的区域中或周围的微粒。增强的气流将消除静态或紊流气流区域,从而有助于从基板的附近去除潜在的微粒。这将防止微粒淀积在基板上,从而提升合格率并改进质量。

著录项

  • 公开/公告号CN1500286A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-05-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 拉姆研究公司;

    申请/专利号CN02807647.8

  • 发明设计人 哈兰·I·霍斯;戴维·E·雅各布;

    申请日2002-03-22

  • 分类号H01L21/00;

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李辉

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 15:22:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/00 授权公告日:20061206 终止日期:20190322 申请日:20020322

    专利权的终止

  • 2006-12-06

    授权

    授权

  • 2004-08-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-05-26

    公开

    公开

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