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晶化设备、用于晶化设备的光学部件、晶化方法、薄膜晶体管和显示器

摘要

一种晶化设备,包括照射移相掩模(1)的发光光学系统(2),其用具有反转峰型强度分布的光束照射非晶半导体膜(4)以产生结晶半导体膜,反转峰型强度分布在相应于移相掩模(1)的移相部分的点具有最小的光强。会聚/发散元件(3)设置在发光光学系统(2)和移相掩模(1)之间的光径上。会聚/发散元件(3)把自发光光学系统(2)提供的光束转换为具有向上凹入强度分布的光束以照射移相掩模(1),其中在移相部分光强最低并且随着远离移相部分光强增加。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-01-27

    专利权的视为放弃

    专利权的视为放弃

  • 2005-08-17

    实质审查的生效

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  • 2004-02-18

    公开

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